中银证券-半导体新股系列4-拓荆科技：主导PECVD、SACVD、ALD等薄膜沉积设备国产化

页数: 19页

评级: 增持

行业: 电子元件

作者: 杨绍辉

发布机构: 中银证券

发布日期: 2021-07-26

半导体新股系列4-拓荆科技：主导PECVD、SACVD、ALD等薄膜沉积设备国产化

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