中银证券-钨填充CVD设备获阶段性进展,薄膜刻蚀与沉积新产品将进入收获期

页数: 6页
评级: 买入
行业: 半导体
作者: 杨绍辉 陶波
关联股票: 中微公司
发布机构: 中银证券
发布日期: 2022-04-01
¥171.9
+0.93 0.54%
更新时间:2025-06-18 14:50:02 雪球行情
最高: 174.00 今开: 171.18 昨收: 170.97
最低: 170.58 成交量: 443.55万手 成交额: 7.64亿
钨填充CVD设备获阶段性进展,薄膜刻蚀与沉积新产品将进入收获期
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