中银证券-钨填充CVD设备获阶段性进展,薄膜刻蚀与沉积新产品将进入收获期

页数: 6页
评级: 买入
行业: 半导体
作者: 杨绍辉 陶波
关联股票: 中微公司
发布机构: 中银证券
发布日期: 2022-04-01
¥302.7
-3.4 -1.11%
更新时间:2025-11-12 14:50:03 雪球行情
最高: 314.88 今开: 305.00 昨收: 306.10
最低: 296.99 成交量: 1,264.39万手 成交额: 38.40亿
钨填充CVD设备获阶段性进展,薄膜刻蚀与沉积新产品将进入收获期
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中银证券 - 钨填充CVD设备获阶段性进展,薄膜刻蚀与沉积新产品将进入收获期
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